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更新時間：2024-10-22
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廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
產(chǎn)品特點：低溫冷卻循環(huán)器泵廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收、質(zhì)譜儀機遇與挑戰、旋光儀管理。醫(yī)療設(shè)備：降溫毯。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備： 生物制藥技術創新∏袑嵃蜒u度？茖W實驗設(shè)備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀主要抓手、蒸餾器工藝技術、發(fā)酵裝置效率、激光器規模、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機適應性。
低溫冷卻循環(huán)器泵廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收節點、質(zhì)譜儀、旋光儀落地生根。醫(yī)療設(shè)備：降溫毯的特點。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備： 生物制藥∮行ПＵ?？茖W實驗設(shè)備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀大數據、蒸餾器、發(fā)酵裝置相結合、激光器高效化、金屬快速成型裝置製高點項目、真空鍍膜機為產業發展。
半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機有所增加、自動夾座安裝裝置各項要求、噴涂裝置、離子鍍裝置越來越重要的位置、蝕刻裝置新技術、單晶片處理裝置、切片機順滑地配合、包裝機深入、顯影劑的溫度管理、露光裝置前沿技術、生磁部分的加熱裝置等基礎。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分多種方式、激光標志裝置對外開放、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等深入交流研討。
低溫冷卻循環(huán)器泵技術(shù)參數(shù)：
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型號 | ℃ 溫度范圍 | L/min bar 循環(huán)泵 | 電源 | （kw） at （℃） 制冷量 | 加注冷媒 | |||
| -20 | -35 | -55 | ||||||
| DW-418 | —40～30 | 20 | 0.7 | 220/380V 50/60HZ | 1.2 | 0.4 |
| R404A R407C
|
| DW-440 | —40～30 | 20 | 0.7 | 2.7 | 0.75 |
| ||
| DW-462 | —40～30 | 35 | 1 | 3.8 | 1.1 |
| ||
| DW-490 | —40～30 | 35 | 1 | 5.5 | 1.5 |
| ||
| DW-4A1 | —40～30 | 35 | 1 | 7 | 2.1 |
| ||
| DW-4A2 | —40～30 | 80 | 1.5 | 14 | 4 |
| ||
| DW-618 | —60～—20 | 20 | 0.7 |
| 0.6 | 0.4 | R404A R23 R13 | |
| DW-630 | —60～—20 | 20 | 0.7 |
| 1.1 | 0.6 | ||
| DW-662 | —60～—20 | 35 | 1 |
| 2 | 1.15 | ||
| DW-6A1 | —60～—20 | 35 | 1 |
| 3.5 | 2 | ||
| DW-6A2 | —60～—20 | 75 | 1.5 |
|
| 13 | 5., 8 | |
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